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苏州伟志水处理设备有限公司 
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| 苏州吴中水驻极超纯水设备/电驻极用水设备/熔喷布用水/口罩 |
苏州吴中水驻极超纯水设备/电驻极用水设备/熔喷布用水/口罩
驻极超纯水设备/电驻极用水设备/熔喷布用水/口罩
熔喷无纺布过滤原理
熔喷无纺布主要材质是聚丙烯，是一种超细静电纤维布，可以捕捉粉尘。飞沫靠近熔喷布后，会被静电吸附在无纺布表面，无法透过。这就是这种材料隔绝的原理。
驻极熔喷布技术起初来源于美国，与传统工艺制造的熔喷布区别在于：传统熔喷布使用的是电晕驻极，其表现出的稳定性和综合效益明显较强；而水驻极熔喷布是通过高压水泵将制备过的纯水输送到喷嘴，由扇形喷嘴对熔喷布进行喷射，2者摩擦从而产生静电；水驻极熔喷布表现情况为静电量饱和。
半导体行业的生产对水质要求非常严格，半导体生产用超纯水设备采用先进制水技术，保证设备出水水质符合用水需求。
半导体行业用超纯水设备工艺
预处理-UF系统-一级反渗透-PH调节-级间水箱-二级渗透-中间水箱-中间水泵-紫外线杀菌器-微孔过滤器-EDI装置-氮封水箱-增压水泵-抛光混床-循环增压泵-用水对象（>=18MΩ.CM)
半导体的生产过程中，涉及到的用水有生产用水和清洗用水。它的用水要求必须是超纯水，因为只有超纯水才能符合水质的标准，因此半导体生产用超纯水设备工艺流程：
原水箱→原水泵→全自动多介质过滤器→全自动活性炭过滤器→还原剂加药装置→全自动软化过滤器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→一级RO水箱→PH调节装置→二级高压泵→二级反渗透系统→二级RO纯水箱→EDI增压泵→UV杀菌器→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→UV杀菌器→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→EDI纯水箱→纯水泵→抛光混床→0.22u膜过滤器→生产线用水点
半导体生产用超纯水设备工作原理
超纯水装置供给原水进入EDI系统，主要部分流入树脂、膜内部，而另一部分沿膜板外侧流动，以洗去透出膜处的离子，树脂截留水中的容存离子，被截留的离子在电极作用下，阴离子向正级方向运动，阳离子向负极方向运动，阳离子透过阳离子膜，排出树脂、膜之外，阴离子透过阴离子膜，排出树脂、膜之外，浓缩了的离子从废水流路中排出，无离子水从树脂/膜内流出。
半导体生产用超纯水备工艺
通过使用超滤、反渗透、EDI和离子交换系统来生产满足需求的超纯水。并将生产过程中所产生的废水经过膜系统的处理进行回收再复用，在很大程度上减少了电子、半导体行业的用水量、降低了生产成本医药行业纯水设备技术方案，工业纯水设备技术维修，反渗透纯净水设备方案设计。
我司对于超纯水设备采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的处理工艺，我司专业生产超纯水设备，有十多年的生产经验，对电控系统PLC方面在水处理行业技术都是成熟的，公司也有做过很 |
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