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静电水驻极/静电驻极设备/静电熔喷布纯水(静电与水驻极所用超纯水设备)

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    静电水驻极/静电驻极设备/静电熔喷布纯水(静电与水驻极所用超纯水设备)

超纯水装置供给原水进入EDI系统,主要部分流入树脂、膜内部,而另一部分沿膜板外侧流动,以洗去透出膜处的离子,树脂截留水中的容存离子,被截留的离子在电极作用下,阴离子向正级方向运动,阳离子向负极方向运动,阳离子透过阳离子膜,排出树脂、膜之外,阴离子透过阴离子膜,排出树脂、膜之外,浓缩了的离子从废水流路中排出,无离子水从树脂/膜内流出。

半导体生产用超纯水备工艺

1预处理-反渗透-0水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象

2.预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

3.预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯

水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

4.预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)

1.选用高性级离子交换树脂,工作交换容量大,能耗低,使用寿命长。

2控制部分全部采用进口控制器,保障设备持续安全运行。

3.全自动控制系统,出水稳定,使用操作方便快捷。

结构合理,安装操作方便。

可根据实际使用需求,水处理设备个性化设计相应设备。

半导体行业用超纯水设备采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量,在工艺设计上,取得国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换温床(EDI电除盐系统)系统等。系统中水箱均设有液体控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选票上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。





超纯水设置的工艺流程1:原水箱、原水泵、石英砂、活性炭、软化、保安过滤器、一级增加泵、一级RO膜、中间水箱、二级增加泵、二级RO膜、纯水箱、输送泵、EDI、超纯水箱、使用点(浓水箱+日用或排放)

超纯水设置的工艺流程2:原水箱、原水泵、石英砂、活性炭、软化、保安过滤器、一级增加泵、一级RO膜、中间水箱、二级增加泵、二级RO膜、纯水箱

 
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